नॅनोपार्टिकल्ससाठी अल्ट्रासोनिक डिस्पर्शन प्रोसेसर
अलिकडच्या वर्षांत, विविध उद्योगांमध्ये नॅनोमटेरियलचा मोठ्या प्रमाणावर वापर केला जात आहे जेणेकरून पदार्थांची कार्यक्षमता सुधारेल. उदाहरणार्थ, लिथियम बॅटरीमध्ये ग्राफीन जोडल्याने बॅटरीचे आयुष्य मोठ्या प्रमाणात वाढू शकते आणि काचेमध्ये सिलिकॉन ऑक्साईड जोडल्याने काचेची पारदर्शकता आणि दृढता वाढू शकते.
उत्कृष्ट नॅनोपार्टिकल्स मिळविण्यासाठी, एक प्रभावी पद्धत आवश्यक आहे. अल्ट्रासोनिक पोकळ्या निर्माण केल्याने द्रावणात त्वरित असंख्य उच्च-दाब आणि कमी-दाब क्षेत्रे तयार होतात. हे उच्च-दाब आणि कमी-दाब क्षेत्रे सतत एकमेकांशी टक्कर देऊन एक मजबूत कातरणे बल निर्माण करतात, डीग्लोमेरेट करतात आणि सामग्रीचा आकार कमी करतात.
तपशील:
मॉडेल | जेएच-झेडएस५जेएच-झेडएस५एल | जेएच-झेडएस१०जेएच-झेडएस१०एल |
वारंवारता | २० किलोहर्ट्झ | २० किलोहर्ट्झ |
पॉवर | ३.० किलोवॅट | ३.० किलोवॅट |
इनपुट व्होल्टेज | ११०/२२०/३८० व्ही, ५०/६० हर्ट्झ | |
प्रक्रिया क्षमता | 5L | १० लि |
मोठेपणा | १०~१००μm | |
पोकळ्या निर्माण होण्याची तीव्रता | २~४.५ वॅट/सेमी2 | |
साहित्य | टायटॅनियम मिश्र धातुचा हॉर्न, ३०४/३१६ एसएस टाकी. | |
पंप पॉवर | १.५ किलोवॅट | १.५ किलोवॅट |
पंप गती | २७६० आरपीएम | २७६० आरपीएम |
कमाल प्रवाह दर | १६० लि/मिनिट | १६० लि/मिनिट |
चिलर | -५~१००℃ पासून १० लिटर द्रव नियंत्रित करू शकते | |
पदार्थाचे कण | ≥३०० एनएम | ≥३०० एनएम |
पदार्थाची चिकटपणा | ≤१२००cP | ≤१२००cP |
स्फोट प्रूफ | नाही | |
शेरे | JH-ZS5L/10L, चिलरशी जुळवा |
शिफारसी:
१. जर तुम्ही नॅनोमटेरियल्समध्ये नवीन असाल आणि अल्ट्रासोनिक डिस्पर्शनचा परिणाम समजून घ्यायचा असेल, तर तुम्ही १०००W/१५००W लॅब वापरू शकता.
२. जर तुम्ही एक लहान आणि मध्यम आकाराचे उद्योग असाल, जे दररोज ५ टनांपेक्षा कमी द्रव हाताळते, तर तुम्ही रिअॅक्शन टँकमध्ये अल्ट्रासोनिक प्रोब जोडणे निवडू शकता. ३०००W प्रोब वापरता येईल.
३. जर तुम्ही मोठ्या प्रमाणात उद्योग करत असाल, दररोज डझनभर टन किंवा अगदी शेकडो टन द्रवपदार्थांवर प्रक्रिया करत असाल, तर तुम्हाला बाह्य अल्ट्रासोनिक अभिसरण प्रणालीची आवश्यकता आहे आणि अल्ट्रासोनिक उपकरणांचे अनेक गट एकाच वेळी इच्छित परिणाम साध्य करण्यासाठी अभिसरण प्रक्रिया करू शकतात.